描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲14年(2020年)
01月16日 03:09
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

柔品(ソフトウェア)開発問題というのは,実は最終的には経営の問題だったりする。要素技術選びにしても,利点がどこまで利益になるか,欠点がどこまで許容出来るか,という判断基準は結局経営にある。

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