希哲14年5月17日の日記

描主宇田川浩行K#F85E
上描き希哲14年(2020年)
05月18日 01:39
下描き希哲14年(2020年)
05月18日 00:31
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

デライト周辺調査をまとめ終え,デライト市場戦略がより明確になった。

これに伴い,デライト正式離立は「名目離立」として,離立補完完了を「実質離立」と位置付けることにした。正式離立は正式離立で名目上意義があるが,それはそれとして実態に即した計画上の用語必要だろう。

明日から開発作業集中する。

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