品質

描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲8年(2014年)
06月17日 14:42
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール
この描出は「素描」です。
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今日は細かい磨き上げの作業が多かったが,着実にデライト品質向上している。堂々とデライト正式離立リリース)と言えるまでもう一息。

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デライト,この2ヶ月延期後縁バックエンド)は理想的な状態に整理出来たものの,手が回らなかった前縁フロントエンド)の品質が想定水準に達していないため,本日中にも「手定め離立」(テストリリース)という形で公開する(かも)。登録不要で試用出来る実質的な公開 β

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ただ,デライト品質もこの一週間で目覚しく進歩している。結局,私がやるべきことは,最高柔品ソフトウェア)を一刻も早く世に出すことだけで,拙速にいい加減なものを出すか,悠長に理想を追うか,なんて選択肢は無かった。

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これまではオープンβ的な公開を想定していたのだが,延期しているうちにそれなりの品質になってきてしまったので,もう正式離立リリース)でいいだろうということになった。完璧主義が結果的に功を奏したのかもしれない。

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細かいこと言わなければ日本語も現状では十分な品質で扱えるわけで,あとは語彙改良だけだな。

出力論組プログラム虎哲*イチ 1.01
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