最高

描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲9年(2015年)
03月30日 20:10
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール
この描出は「素描」です。
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でも,そんなことより何よりも,嬉しいのは,いま一番,柔品(ソフトウェア)開発楽しいということだ。もちろん,重圧表裏一体なのだが,ちょっと泣けてくるくらいに楽しい。開発者として最高幸せなことだと思う。

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これからの1ヶ月,私は柔品(ソフトウェア)開発者として最高素材環境に恵まれた天国と,重圧地獄を同時に味わうことになるだろう。

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ただ,デライト品質もこの一週間で目覚しく進歩している。結局,私がやるべきことは,最高柔品ソフトウェア)を一刻も早く世に出すことだけで,拙速にいい加減なものを出すか,悠長に理想を追うか,なんて選択肢は無かった。

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この10月は,希哲館創立12周年11月1日)までにデライト成功させることが出来るかという挑戦が出来る月だ。結果的に,最高機会に恵まれた。

出力論組プログラム虎哲*イチ 1.01
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