描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲14年(2020年)
02月09日 14:55
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

デライト理論技術両面において Scrapbox を凌いでいると思うが,これから GAFA と戦おうという時に,目指すところの近い同じ日本人開発者同士で競合するというのも,なんか悲しいものがある。

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