描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲14年(2020年)
02月15日 05:22
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

なにはともあれ,デライト日本の情技(IT)産業に初めてシリコンバレー模倣ではない,哲学水準からの独自性を持った製品誕生したことになる。あとは育て方の問題。

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