描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲14年(2020年)
02月08日 22:48
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

希哲館訳語を考えていても思うが,やはり今の日本の情技(IT)業界の問題として,日本人開発者日本語的に不自然なものを作ってしまう,だから外国製品に対して言語的親和性差別化出来ていない,というのは間違いなくある。国内ですら支持を固められない。

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