描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲13年(2019年)
12月11日 15:57
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

柔品(ソフトウェア)開発の世界では,細部にこだわって離立リリース)を遅らせるのは悪手と考える人は多いが,例えばものづくりの世界では細部を等閑にするのは「甘え」で,そんなとこ誰も見ないよ,みたいなところまで徹底的にこだわるのが仕事,という価値観もある。さて……。

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