描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲14年(2020年)
03月17日 20:25
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

希哲館訳語活用した和文とそうでない和文では,簡潔性表現力に明らかなが出る。これをどうやって感じてもらえるか,というのを一つの課題としている。

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