基礎

描主宇田川浩行K#F85E
下描き希哲7年(2013年)
10月06日 00:32
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール
この描出は「素描」です。

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基盤をしっかり作っておいたおかげで,考えれば考えるほど,工夫すればするほど,環境は良くなっていく。これをひたすら続けていく。その先に知識産業革命は必ずある。

出力論組プログラム虎哲*イチ 1.01
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